3，光電、超聲波清洗行業(yè)

★水質(zhì)要求：
     新興的光電材料生產(chǎn)、加工、超聲波清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求.中國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）

★應用場(chǎng)合：
   ☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
   ☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；
   ☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
   ☆半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
   ☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料；
   ☆實(shí)驗室和中試車(chē)間；
   ☆汽車(chē)、家電表面拋光處理；
   ☆光電產(chǎn)品；
   ☆其他高科技精微產(chǎn)品；

★工藝流程
   ☆二級反滲透制備超純水工藝流程 
     預處理----一級反滲透裝置----中間水箱----二級反滲透裝置----超純水水箱----純水泵----用水點(diǎn)    
   ☆一級反滲透+混床制備超純水工藝流程   
     預處理----一級反滲透裝置----中間水箱----中間水泵----精制混床----精密過(guò)濾器----超純水水箱----純水泵----用水點(diǎn)      
   ☆二級反滲透+拋光混床制備超純水工藝流程     
     預處理----一級反滲透裝置----中間水箱----中間水泵----二級反滲透裝置----拋光混床-----精密過(guò)濾器----超純水水箱----純水泵----用水點(diǎn)   
   ☆二級反滲透制備+EDI制備超純水工藝流程  
     預處理----一級反滲透裝置----中間水箱----中間水泵----二級反滲透裝置----EDI主機----超純水水箱----純水泵----精密過(guò)濾器----用水點(diǎn)